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图7为利用电沉积合成的材料，智造主题由不规则形状、取向随机的晶粒组成，晶粒尺寸位于100nm-1μm之间。济南进式箭头表示位错胞边界的中断。

（C）拉伸断裂后，活动粗奥氏体晶粒中形成透镜状马氏体。图8位样品拉伸后的TEM照片，擦亮可以看出变性后形成了大量的位错，擦亮近距离观察表明，大多数位错位于孪晶界（TBs），其间距从几nm到几十nm，而在孪晶层内的位错很少。